[发明专利]投影仪及投影仪的发光控制方法有效
| 申请号： | 201310261881.8 | 申请日： | 2013-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN103543581A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 水野贤五 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/00 | 分类号： | G03B21/00;G03B21/20;G03B21/14;G09G3/34;H04N9/31;H04N9/73 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 舒艳君;李洋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够对投影仪投射的光的白平衡进行适当地调整的投影仪以及投影仪的发光控制方法。投影仪（1）具备：多个激光光源（42）、（43）；对多个激光光源（42、43）发出的光进行调制并投射的投射部（20）；使从投射部（20）投射的调制光（28）的投射状态光学性地变化的投射光学系统（23）；使投射光学系统（23）的状态变化的投射光学系统驱动部（34）；将投射光学系统（23）的状态与用于调整调制光（28）的白平衡的各个激光光源（42、43）的发光量的调整值相关联地进行存储的存储部（15）；以及基于与投射光学系统（23）的状态对应的调整值来调整各个激光光源（42）、（43）的发光量的PWM信号生成部（50）。 | ||
| 搜索关键词： | 投影仪 发光 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种投影仪，其特征在于，具备：多个光源；以及调制单元，其对所述多个光源发出的光进行调制，并且具备：投射部，其投射由所述调制单元调制出的调制光；光学系统，其使从所述投射部投射的调制光的投射状态光学性地变化；光学系统调整单元，其使所述光学系统的状态变化；存储单元，其将所述光学系统的状态与用于调整所述调制光的白平衡的所述多个光源中的各个光源的发光量的调整值相关联地进行存储；以及发光量调整单元，其基于与所述光学系统的状态对应的所述调整值来调整所述多个光源中的各个光源的发光量。
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