[发明专利]增强光刻工艺能力的系统及方法有效
| 申请号： | 201310264698.3 | 申请日： | 2013-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN103345122A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 毛智彪 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种增强光刻工艺能力的系统及方法，根据光刻工艺需求，调整多灰度圆环形照明光圈的相关参数，从而使得入射光线经过该多灰度圆环形照明光圈后，以符合工艺需求的曝光量照射至硅片表面，进而使得硅片表面的光刻胶形成最终图形，进一步的完成光刻工艺；本发明提供的增强光刻工艺能力的方法能够有效提高各种不同尺寸的图形的综合分辨率和工艺窗口，平衡了各种不同尺寸图形的线宽尺寸，且避免了多次曝光工艺的成本增加和产出量降低的问题，进而提高了生产效率和降低了制造成本，且提高了器件的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 增强 光刻 工艺 能力 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种增强光刻工艺能力的系统，应用于硅片的光刻工艺中，所述系统包括聚光透镜，其特征在于，所述系统还包括一多灰度圆环形照明光圈；所述多灰度圆环形照明光圈设置于所述聚光透镜的瞳孔平面；所述多灰度圆环形照明光圈上还设置有双级照明组合；其中，所述双级照明组合包括两个透光孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310264698.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
