[发明专利]流体抽取系统、光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201310268012.8 | 申请日： | 2009-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN103365117A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | N·R·凯姆皮尔;R·N·J·范巴莱高吉;M·M·P·A·沃姆伦;M·瑞鹏;M·W·范登胡威尔;P·P·J·博克文斯;C·德米特森阿尔;J·M·W·范登温凯尔;C·M·诺普斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的至少一部分和/或所述分离储槽的壁的至少一部分包括柔性边界部分，所述柔性边界部分被配置以响应于在其上的压力差的变化发生变形，以便减小所述流体抽取系统中的所述两相流体的压力波动。另外，本发明还公开了包括该流体抽取系统的浸没式光刻设备的流体处理系统、浸没式光刻设备以及用于减小浸没式光刻设备中所使用的浸没液体的压力波动的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 抽取 系统 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于抽取光刻设备中的两相流体的流体抽取系统，所述流体抽取系统包括：抽取通道，其用于使两相流体流从其中通过；和分离储槽，其与所述抽取通道流体连接，并且被配置用于接收来自所述抽取通道的所述两相流体流，其中，所述抽取通道的壁的至少一部分和/或所述分离储槽的壁的至少一部分包括柔性边界部分，所述柔性边界部分被配置以响应于在其上的压力差的变化发生变形，以便减小所述流体抽取系统中的所述两相流体的压力波动。
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