[发明专利]两级式补正装置及曝光机基座无效
| 申请号： | 201310269907.3 | 申请日： | 2013-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN103293880A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 黄章咏;刘健行;刘刚 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 赵根喜;吕俊清 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本公开提供一种两级补正的曝光机基座，包括曝光基座、基板保持台面；其包括一级补正装置及二级补正装置；一级补正装置位于曝光基座与承载台之间；二级补正装置位于曝光基座与基板保持台面之间。不仅在曝光基座与承载台之间设置补正装置。于曝光基座与保持台面中间也加装有补正装置，若需补正的量较小，曝光基座的补正装置即可直接补正。若补正量较大无法单一通过基座补正时，剩余需补正的量就由保持台面下的第二补正装置进行补正。 | ||
| 搜索关键词： | 两级 补正 装置 曝光 基座 | ||
【主权项】：
一种两级式补正装置，其包括一级补正装置及二级补正装置；一级补正装置位于基座与下部台面之间；二级补正装置位于基座与上部台面之间。
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