[发明专利]电子照相感光构件、处理盒以及电子照相设备有效

专利信息
申请号: 201310269987.2 申请日: 2013-06-28
公开(公告)号: CN103529663A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 关谷道代;关户邦彦;奥田笃;友野宽之;中村延博;伊藤阳太;加来贤一;石塚由香 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/047 分类号: G03G5/047;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了电子照相感光构件、处理盒以及电子照相设备。一种电子照相感光构件,其具有层压体和在层压体上形成的空穴输送层,其中该层压体依次具有支承体、电子输送层和电荷产生层,并且满足以下表达式(2)和(4):|Vl2-Vl1|≤0.35...(2)0.10≤|(Vd2-Vl3)/Vd2|≤0.20...(4)。
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 处理 以及 设备
【主权项】:
一种电子照相感光构件,其包括:层压体,和在所述层压体上形成的空穴输送层,其中所述层压体包括:支承体,在所述支承体上形成的具有d1[μm]厚度的电子输送层,和在所述电子输送层上形成的具有d2[μm]厚度的电荷产生层,并且其中,所述层压体满足以下表达式(2)和(4):|Vl2‑Vl1|≤0.35    (2),和0.10≤|(Vd2‑Vl3)/Vd2|≤0.20    (4)其中,在所述表达式(2)和(4)中,Vl1表示当使所述电荷产生层的表面带电以致所述表面具有由以下表达式(1)表示的Vd1[V]电位,用光照射具有Vd1电位的该电荷产生层的表面,随后在所述照射后间隔0.18秒时的所述电荷产生层的表面电位:Vd1=‑50×(d1+d2)    (1),其中调整所述光的强度以致当照射所述电荷产生层、随后在该照射后间隔0.20秒时的所述表面电位相对于Vd1[V]衰减20%;Vl2表示当使所述电荷产生层的表面带电以致所述表面的电位为Vd1[V],用光照射具有Vd1电位的该电荷产生层的表面,随后在所述照射后间隔0.22秒时的所述电荷产生层的表面电位;和Vl3表示当使所述电荷产生层的表面带电以致所述表面具有由以下表达式(3)表示的Vd2[V]电位,用光照射具有Vd2电位的该电荷产生层的表面,随后在该照射后间隔0.20秒时的所述电荷产生层的表面电位:Vd2=‑30×(d1+d2)    (3)。
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