[发明专利]金属内连线结构及其制造方法

摘要

本发明公开了一种金属内连线结构的制造方法，包括在介电层中形成导电插塞，接着，在介电层与导电插塞上形成导电层，之后，在导电层上覆盖顶盖层，其后，图案化顶盖层与导电层，以形成图案化的顶盖层与图案化的导电层。本发明的金属内连线结构的制造方法可以避免残酸除气现象，提升元件的可靠度以及工艺的良率。

主权项

一种金属内连线结构的制造方法，包括：在一介电层中形成一接触窗开口，该接触窗开口的尺寸不大于1000埃，再于该接触窗开口中填入导电材料，以形成一导电插塞，该导电插塞中具有至少一孔隙；在该介电层与该导电插塞上形成一导电层，该导电层的厚度不大于1000埃，该导电层中具有至少一细缝，該至少一細縫的一端的寬度小於該至少一細縫中遠離該端的一部分的寬度；在该导电层上覆盖一顶盖层，该顶盖层封闭该至少一细缝的开口，且该顶盖层包括以原位沉积法形成的一金属氮化物层；以及图案化该顶盖层与该导电层，以形成一图案化的顶盖层与一图案化的导电层，且该图案化的顶盖层的厚度介于1nm至5nm之间。