[发明专利]电可擦可编程只读存储器在审
申请号: | 201310271011.9 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN103346158A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 杨光军;胡剑 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/761 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种电可擦可编程只读存储器,包括:半导体衬底;于该半导体衬底上设置深N阱;于该深阱上设有多个P阱,每个P阱上具有间隔设置的源极区域和漏极区域及沟道区,沟道区位于源极区域与漏极区域之间;第一浮栅,设置于沟道区上方靠近该源极区域,第二浮栅,设置于该沟道区上方靠近该漏极区域,第一浮栅和第二浮栅分别构成第一存储位单元和第二存储位单元;第一控制栅和第二控制栅,分别设置于该第一浮栅和该第二浮栅上方;字线,位于该沟道区上方并位于该第一浮栅和第二浮栅之间;各存储单元的浮栅、控制栅、字线、位线、漏极区域、源极区域、沟道区域均被P阱包围,通过本发明,可避免大量使用字线电压选择开关,减少芯片的面积。 | ||
搜索关键词: | 电可擦 可编程 只读存储器 | ||
【主权项】:
一种电可擦可编程只读存储器,至少包括:半导体衬底;于该半导体衬底上设置深N阱;于该深阱上设有多个P阱,每个P阱上具有间隔设置的源极区域和漏极区域及沟道区,该沟道区位于该源极区域与该漏极区域之间;第一浮栅,设置于该沟道区上方靠近该源极区域,第二浮栅,设置于该沟道区上方靠近该漏极区域,该第一浮栅和该第二浮栅分别构成第一存储位单元和第二存储位单元;第一控制栅和第二控制栅,分别设置于该第一浮栅和该第二浮栅上方;字线,位于该沟道区上方并位于该第一浮栅和第二浮栅之间;各存储单元的浮栅、控制栅、字线、位线、漏极区域、源极区域、沟道区域均被P阱包围。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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