[发明专利]电可擦可编程只读存储器在审

专利信息
申请号: 201310271011.9 申请日: 2013-06-28
公开(公告)号: CN103346158A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 杨光军;胡剑 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/761
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种电可擦可编程只读存储器,包括:半导体衬底;于该半导体衬底上设置深N阱;于该深阱上设有多个P阱,每个P阱上具有间隔设置的源极区域和漏极区域及沟道区,沟道区位于源极区域与漏极区域之间;第一浮栅,设置于沟道区上方靠近该源极区域,第二浮栅,设置于该沟道区上方靠近该漏极区域,第一浮栅和第二浮栅分别构成第一存储位单元和第二存储位单元;第一控制栅和第二控制栅,分别设置于该第一浮栅和该第二浮栅上方;字线,位于该沟道区上方并位于该第一浮栅和第二浮栅之间;各存储单元的浮栅、控制栅、字线、位线、漏极区域、源极区域、沟道区域均被P阱包围,通过本发明,可避免大量使用字线电压选择开关,减少芯片的面积。
搜索关键词: 电可擦 可编程 只读存储器
【主权项】:
一种电可擦可编程只读存储器,至少包括:半导体衬底;于该半导体衬底上设置深N阱;于该深阱上设有多个P阱,每个P阱上具有间隔设置的源极区域和漏极区域及沟道区,该沟道区位于该源极区域与该漏极区域之间;第一浮栅,设置于该沟道区上方靠近该源极区域,第二浮栅,设置于该沟道区上方靠近该漏极区域,该第一浮栅和该第二浮栅分别构成第一存储位单元和第二存储位单元;第一控制栅和第二控制栅,分别设置于该第一浮栅和该第二浮栅上方;字线,位于该沟道区上方并位于该第一浮栅和第二浮栅之间;各存储单元的浮栅、控制栅、字线、位线、漏极区域、源极区域、沟道区域均被P阱包围。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司,未经上海宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310271011.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top