[发明专利]一种基于柔性基底的太赫兹调制器膜材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于柔性基底的太赫兹调制器膜材料的制备方法，采用聚酰亚胺为柔性基底，清洗后在其表面沉积厚度为50～300nm的金属钒纳米薄膜，再将金属钒纳米薄膜进行快速热处理，形成金属钒薄膜厚度为100～600nm。本发明借助于激光激励，通过改变材料本身的性质来实现太赫兹波的调制，实现了调制器膜材料在柔性基底上的可操作性，为柔性基底集成电路新型器件提供了应用基础。

主权项

一种基于柔性基底的太赫兹调制器膜材料的制备方法，具有以下步骤： (1)柔性基底PI的清洗： 所用柔性基底为聚酰亚胺，简称PI，将其依次放入去离子水、丙酮溶剂和无水乙醇中分别超声清洗20分钟，随后放入质量分数为5%的醋酸溶液中浸泡15分钟，除去表面有机物杂质；再用去离子水洗净，烘干备用； (2)制备金属钒纳米薄膜： 将步骤（1）清洗好的PI置于超高真空对靶磁控溅射设备的真空室，采用质量纯度为99.99%的金属钒作为靶材，以质量纯度为99.999%的氩气作为工作气体，本底真空度4～6×10‑4Pa，基片温度为室温，氩气气体流量为45‑48mL/min，溅射工作气压为0.5～2Pa，溅射功率135～150W，溅射时间10～60min，在PI表面沉积金属钒纳米薄膜； (3)基于柔性基底金属钒纳米薄膜的热处理 将步骤(2)制得的金属钒纳米薄膜置于快速热处理设备中，采用质量纯度为99.999%的氧气作为工作气体，氧气气体流量为30～50sccm，热处理温度为250～300℃，热处理时间为30～180s； (4)采用标准的8‑fTHz时域频谱系统测试基柔性基底氧化钒薄膜的调制特性，所加激光功率为200‑600mW。