[发明专利]新型四叠层非微晶锗硅薄膜太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310275316.7 申请日: 2013-07-03
公开(公告)号: CN103337549A 公开(公告)日: 2013-10-02
发明(设计)人: 董德庆;李朗川;信德磊;付东东 申请(专利权)人: 黑龙江汉能薄膜太阳能有限公司
主分类号: H01L31/076 分类号: H01L31/076;H01L31/0368;H01L31/20
代理公司: 大庆禹奥专利事务所 23208 代理人: 朱士文;杨晓梅
地址: 155100 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 新型四叠层非微晶锗硅薄膜太阳能电池,其特征在于包括四结叠层串联的子电池;第一结是由P1层、I1层、N1层构成的PIN结构,第二结为P2层、I2层、N2层构成的PIN结构,第三结为P3层、I3层、N3层构成的PIN结构,第四结为P4层、I4层、N4层构成的PIN结构,其中P1层、P2层为P型a-Si材料,P3层、P4层为P型μc-Si材料,N1层、N4层为N型a-Si材料,N2层、N3层为N型μc-Si材料。I1层为a-Si材料,I2层为a-SiGe材料,I3层为μc-Si材料,I4层为μc-SiGe材料;该电池提高了光电转换效率,结构性能稳定,有利于产业化。
搜索关键词: 新型 四叠层非微晶锗硅 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种新型四叠层非微晶锗硅薄膜太阳能电池,其特征在于包括四结叠层串联的子电池;第一结是由P1层、I1层、N1层构成的PIN结构,第二结为P2层、I2层、N2层构成的PIN结构, 第三结为P3层、I3层、N3层构成的PIN结构,第四结为P4层、I4层、N4层构成的PIN结构,其中P1层、P2层为P型a‑Si材料,P3层、P4层为P型μc‑Si材料,N1层、N4层为N型a‑Si材料,N2层、N3层为N型μc‑Si材料;I1层为a‑Si材料,I2层为a‑SiGe材料,I3层为μc‑Si材料,I4层为μc‑SiGe材料;第一结电池镀在具有TCO透明导电膜的超白浮法玻璃基板上,在第一结电池上面依次沉积另三结电池;第四结上设有ZnO:Al层,ZnO:Al层上依次镀银、NiCr和Al构成背电极层。
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