[发明专利]一种化学镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310275419.3 申请日: 2013-07-02
公开(公告)号: CN103388137A 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 于志明;胡家秀;赵健;牛云松 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C23C18/36 分类号: C23C18/36
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及叠层膜的制备技术,具体为一种具有优良耐磨、耐腐蚀性能并且可抑制裂纹产生和扩展的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜及其制备方法。本发明采用化学镀工艺并间歇式周期性导入超声波的技术,制备Ni-P纳米叠层镀膜,其制备方法:经过除油、净化处理的金属基底材料,进行化学镀Ni-P纳米叠层镀膜,当Ni-P纳米叠层镀膜达到所需要的厚度时,取出清洗干净并进行干燥后,即可得到制好的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜,其单层厚度在50-500纳米,总厚度在4-50微米范围内根据实际需求可以进行调整。
搜索关键词: 一种 化学 ni 纳米 叠层膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种化学镀Ni‑P纳米叠层膜,其特征在于:纳米叠层镀膜是在化学镀工艺过程中通过间歇式周期性引入超声波信号于化学镀溶液中,在金属基底材料上沉积Ni‑P纳米叠层镀膜,获得的Ni‑P纳米叠层镀膜呈层状重复堆积结构,纳米叠层镀膜的单层厚度在50‑500纳米范围内,总厚度在4‑50微米范围内根据实际需求进行调整。
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