[发明专利]一种化学镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法有效
申请号: | 201310275419.3 | 申请日: | 2013-07-02 |
公开(公告)号: | CN103388137A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 于志明;胡家秀;赵健;牛云松 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及叠层膜的制备技术,具体为一种具有优良耐磨、耐腐蚀性能并且可抑制裂纹产生和扩展的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜及其制备方法。本发明采用化学镀工艺并间歇式周期性导入超声波的技术,制备Ni-P纳米叠层镀膜,其制备方法:经过除油、净化处理的金属基底材料,进行化学镀Ni-P纳米叠层镀膜,当Ni-P纳米叠层镀膜达到所需要的厚度时,取出清洗干净并进行干燥后,即可得到制好的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜,其单层厚度在50-500纳米,总厚度在4-50微米范围内根据实际需求可以进行调整。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 ni 纳米 叠层膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种化学镀Ni‑P纳米叠层膜,其特征在于:纳米叠层镀膜是在化学镀工艺过程中通过间歇式周期性引入超声波信号于化学镀溶液中,在金属基底材料上沉积Ni‑P纳米叠层镀膜,获得的Ni‑P纳米叠层镀膜呈层状重复堆积结构,纳米叠层镀膜的单层厚度在50‑500纳米范围内,总厚度在4‑50微米范围内根据实际需求进行调整。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310275419.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理