[发明专利]一种新型负性化学放大光刻胶及其成像方法有效
| 申请号： | 201310277171.4 | 申请日： | 2013-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN103309160A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 孙嘉;陈昕;罗杰·森特;李冰;刁翠梅;李海波;韩现涛 | 申请（专利权）人： | 北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 | 代理人： | 谢亮;赵德兰 |
| 地址： | 101312 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种新型负性化学放大光刻胶及其成像方法，该负性化学放大光刻胶含有苯酚类树脂、光致产酸剂、交联剂、碱性添加剂、敏化剂和光刻胶溶剂。其中苯酚类树脂是所述新型负性化学放大光刻胶的主体材料，光致产酸剂是在光照时能够产生一定强度的酸，交联剂能够与酚羟基或邻/对位羟甲基官能团发生缩和反应。在所述新型负性化学放大光刻胶成像方法中包括涂布、烘烤、曝光、烘烤和显影等步骤。本发明所述的化学放大负性光刻胶，可以有效提高光刻胶的分辨率及感光速度，同时与正性光刻胶所用的试剂相同，适用于高档集成电路、平板显示及半导体照明芯片制造等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 化学 放大 光刻 及其 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种新型负性化学放大光刻胶，其包含苯酚类树脂、光致产酸剂、交联剂、碱性添加剂、敏化剂和光刻胶溶剂；所述交联剂能够与酚羟基或邻/对位羟甲基官能团发生缩和反应。
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