[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201310282257.6 | 申请日： | 2013-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN103309105A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 李婧;张文余;张家祥 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L29/786;H01L29/10;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，减小了薄膜晶体管单元的导电沟道的沟道长度，同时提高了像素的开口率。该阵列基板包括：衬底基板及位于所述衬底基板之上的多个薄膜晶体管单元，其中，所述薄膜晶体管单元包括：位于所述衬底基板之上的第一栅极，位于所述第一栅极之上的栅极绝缘层，与第一栅极同层设置的漏极，位于所述漏极之上的有源层，位于有源层之上的源极，所述衬底基板与同层设置的第一栅极及漏极之间设置有第一透明导电层，所述第一栅极及其下方的第一透明导电层与漏极及其下方的第一透明导电层之间设置有栅绝缘层。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板及位于所述衬底基板之上的多个薄膜晶体管单元，其中，所述薄膜晶体管单元包括：位于所述衬底基板之上的第一栅极，位于所述第一栅极之上的栅极绝缘层，与第一栅极同层设置的漏极，位于所述漏极之上的有源层，位于有源层之上的源极，所述衬底基板与同层设置的第一栅极及漏极之间设置有第一透明导电层，所述第一栅极及其下方的第一透明导电层与漏极及其下方的第一透明导电层之间设置有栅绝缘层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司，未经北京京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310282257.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于投影装置的光源系统
- 下一篇：手持电子设备和显示方法
