[发明专利]基于局部阴影图的高质量软阴影快速生成方法有效

专利信息
申请号: 201310282795.5 申请日: 2013-07-06
公开(公告)号: CN103366396A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 王莉莉;张鑫维;马志强 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G06T15/60 分类号: G06T15/60
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明;顾炜
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出了一种基于局部阴影图的高质量软阴影快速生成方法,该方法的流程图包括以下两个部分:自适应光源采样,通过将生成的部分阴影图反投影到相机视点下来判断是否进一步细分光源采样点,从而实现对光源进行自适应采样,生成足够保证高质量阴影的阴影图;局部阴影图加速,在反投影阴影图时计算可见阴影像素对应的面光源阴影图区域,并以此调整阴影图生成的投影矩阵和视口,从而加速阴影图的生成。本方法在保证高质量阴影的同时,能大大提高渲染效率,尤其适用于不可见阴影部分较多的场景。本方法支持动态面光源、动态可变形场景且无须预计算,具有实施简单、效果逼真、渲染高效等优点。
搜索关键词: 基于 局部 阴影 质量 快速 生成 方法
【主权项】:
一种基于局部阴影图的高质量软阴影快速生成方法,其特征在于:主要包括以下三个步骤:(1)初始化光源采样点,根据场景大小确定阴影图生成的投影矩阵和视口以及其他初始化设置;(2)利用自适应方法对光源进行采样,确定只生成能保证高质量软阴影的最少数目阴影图;同时通过初始阴影图信息自适应调整阴影图生成的投影矩阵和视口,从而生成局部阴影图来加速后续阴影图生成的过程;(3)应用步骤(2)得到的阴影图生成软阴影,从视点位置绘制一遍整个场景,使用Phong光照模型结合阴影图上的可见性信息,渲染得到整个场景的光影效果;其中步骤(2)具体分为5个步骤:生成采样点阴影图;阴影图比较;快速求取面光源阴影图范围;调整阴影图生成的投影矩阵和视口以及利用生成的阴影图渲染软阴影。
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