[发明专利]基于纳米团簇束流沉积系统制备TiO2纳米颗粒减反膜的方法无效

专利信息
申请号: 201310289824.0 申请日: 2013-07-11
公开(公告)号: CN103343317A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 毛鹏;韩民;谢波;王广厚 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种基于纳米团簇束流沉积制备TiO2纳米颗粒减反膜的方法,包括以下步骤:(a)将基片固定于高真空沉积室内的基座上;(b)将整个团簇束流沉积系统抽真空,向冷凝室内充入惰性气体,通过原子化器产生高密度Ti原子,Ti原子在惰性气体中成核生长形成Ti团簇,依次通过喷嘴和准直器形成高度定向的Ti纳米团簇束流;(c)纳米团簇束流斜入射对基片沉积,利用纳米粒子在斜入射沉积过程中产生的自掩模效应形成多孔结构,在沉积过程中高真空沉积室内通入氧气,使Ti纳米颗粒薄膜氧化为TiO2纳米颗粒薄膜,或采用沉积/氧化交替进行的方式,使TiO2纳米颗粒在基片上达到所需的覆盖率及层数。本发明方法具有可控性强、工艺简单、成本低、高效率等特点。
搜索关键词: 基于 纳米 团簇束流 沉积 系统 制备 tio sub 颗粒 减反膜 方法
【主权项】:
一种基于纳米团簇束流沉积系统制备TiO2纳米颗粒减反膜的方法,其制备方法步骤如下:(a)将表面光洁的基片(7)固定于高真空沉积室(9)内的可旋转的基座(10)上;(b)气体聚集法团簇束流源(2)连接到真空室(12)上,气体聚集法团簇束流源(2)采用气体聚集法产生团簇束流,利用抽气系统的机械泵、罗茨泵和分子泵对团簇束流沉积系统抽真空,在冷凝室(5)中通入50~500Pa惰性气体(1),通过原子化器(3)产生高密度Ti原子, Ti原子在惰性气体(1)中成核生长形成Ti团簇,通过第一级差分真空系统(11)使冷凝室(5)中的Ti团簇随惰性气体经喷嘴(4)喷出到真空室(12)中,形成Ti团簇束流,由第二级差分真空系统(13)使Ti团簇束流经过第一准直器(6)和第二准直器(6)进入高真空沉积室(9)内,形成高度定向的纳米团簇束流(8); (c)旋转高真空沉积室(9)内的基座(10),使基片(7)表面法线方向与纳米团簇束流(8)成0~85°夹角,利用斜入射沉积产生的自掩模效应,形成多孔的Ti纳米颗粒薄膜;(d)在沉积过程中高真空沉积室(9)内通入10~50Pa的氧气,使基片(7)表面的Ti纳米颗粒薄膜氧化为TiO2纳米颗粒薄膜,或采用沉积/氧化交替进行的方式,先在真空条件下沉积一层Ti纳米颗粒,然后停止沉积,通入氧气氧化,完成氧化后抽除氧气,继续真空沉积,通过这样的沉积/氧化循环,使TiO2纳米颗粒在基片(7)上达到所需的覆盖率及层数,停止沉积。
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