[发明专利]一种金属箔基底石墨烯刻蚀液及其刻蚀方法有效
申请号: | 201310290032.5 | 申请日: | 2013-07-10 |
公开(公告)号: | CN103361068A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 吕鹏;张梓晗 | 申请(专利权)人: | 合肥微晶材料科技有限公司 |
主分类号: | C09K13/00 | 分类号: | C09K13/00;C01B31/04 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 何梅生 |
地址: | 230088 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属箔基底石墨烯刻蚀液及其刻蚀方法,其特征是:刻蚀液是按如下步骤进行配置的过硫酸铵的水溶液:a、将过硫酸铵盛入玻璃容器中;b、将去离子水加热到100℃,使去离子水沸腾;c、将步骤b所制备的沸腾的去离子水加入到盛有过硫酸铵的玻璃容器中,使过硫酸铵溶解得过硫酸铵的水溶液。本发明通过改变刻蚀液的配置方法配置方法及刻蚀方法,并结合玻璃容器的使用,解决了金属箔基底石墨烯在刻蚀完金属箔基底后有很多气泡附着在石墨烯的下表面难以去除的问题,提高了刻蚀后石墨烯的质量,对促进石墨烯大规模工业化应用具有极大的推进作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 基底 石墨 刻蚀 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种金属箔基底石墨烯刻蚀液,其特征是:所述刻蚀液是按如下步骤进行配置的过硫酸铵的水溶液:a、将过硫酸铵盛入玻璃容器中;b、将去离子水加热到100℃,使所述去离子水沸腾;c、将步骤b所制备的沸腾的去离子水加入到盛有过硫酸铵的玻璃容器中,使过硫酸铵溶解得过硫酸铵的水溶液。
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