[发明专利]一种新型的等离子体镀膜替代水电镀系统在审
| 申请号： | 201310291547.7 | 申请日： | 2013-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN104278242A | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 刘玮;王守国 | 申请（专利权）人： | 刘玮;王守国 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C16/513 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100049 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型的等离子体镀膜替代水电镀系统，主要包括磁控溅射真空腔室(简称溅射室)和等离子体气相沉积真空腔室(简称沉积室)，以及分别与这两个室相连接的两个预真空室，其特征为：真空腔室是通过闸板阀(104)连接，连接顺序为：第一预真空室(110)-溅射室(120)-沉积室(130)-第二预真空室(140)，工件挂架台(103)在溅射室(120)和沉积室(130)中可被电机带动旋转，该工件挂架台可以通过磁力推杆(109)在腔室轨道上传送，在待镀膜的工件先放置到工件挂架台上，并依次进入第一预真空室(110)-溅射室(120)-沉积室(130)-第二预真空室(140)的镀膜程序，该镀膜程序由PLC实现自动控制。该设备主要是用来对工件的表面实现等离子体溅射镀膜和气相沉积镀膜来替代传统的水电镀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 等离子体 镀膜 替代 水电 系统 | ||
【主权项】：
一种新型的等离子体镀膜替代水电镀系统，主要包括溅射室和沉积室，以及分别与这两个室相连接的两个预真空室，其特征为：真空腔室是通过闸板阀(104)连接，连接顺序为：第一预真空室(110)‑溅射室(120)‑沉积室(130)‑第二预真空室(140)，工件挂架台(103)在溅射室(120)和沉积室(130)中可被电机带动旋转，该工件挂架台可以通过磁力推杆(109)在腔室轨道上传送，在待镀膜的工件先放置到工件挂架台上，并依次进入第一预真空室(110)‑溅射室(120)‑沉积室(130)‑第二预真空室(140)的镀膜程序，该镀膜程序由PLC实现自动控制。
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