[发明专利]一种基板清洗装置有效

专利信息
申请号: 201310293522.0 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN103316862A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 马青青;侯智;吴代吾;杨子衡;张洪波;王百强 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种基板清洗装置,包括内部具有清洗室的壳体;枢装于壳体、且沿基板移动方向并排分布的多个喷淋管道,每一个喷淋管道具有将喷淋管道内的液体导向基板被清洁面的若干个喷液口,每一个喷淋管道的一端具有与其同轴固定的传动齿轮;通过传动齿轮驱动喷淋管道同频率往复转动的驱动系统,其中一部分喷淋管道的往复转动方向与另一部分喷淋管道的往复转动方向相反。本发明提供的基板清洗装置能够保证对基板移动速度影响较小的前提下,提高对基板表面的清洁效果。
搜索关键词: 一种 清洗 装置
【主权项】:
一种基板清洗装置,其特征在于,包括:内部具有清洗室的壳体;枢装于所述壳体、且沿基板移动方向并排分布的多个喷淋管道,每一个所述喷淋管道具有将所述喷淋管道内的液体导向基板被清洁面的若干个喷液口,每一个所述喷淋管道的一端具有与其同轴固定的传动齿轮;通过所述传动齿轮驱动所述喷淋管道同频率往复转动的驱动系统,其中一部分所述喷淋管道的往复转动方向与另一部分所述喷淋管道的往复转动方向相反。
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