[发明专利]静电放电保护结构有效

专利信息
申请号: 201310295934.8 申请日: 2013-07-15
公开(公告)号: CN104299966B 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 温詠儒;王畅资;唐天浩 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/78
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 史新宏
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 静电放电保护结构,包括基底、接点区、第一金属氧化物半导体元件、第二金属氧化物半导体元件、第一掺杂区以及第二掺杂区。接点区位于基底中。第一金属氧化物半导体元件包括具有第一导电型的第一漏极区,位于基底中。第二金属氧化物半导体元件包括具有第一导电型的第二漏极区,位于基底中。第一漏极区较第二漏极区接近接点区。第一和第二掺杂区均具有第二导电型,分别位于对应的第一和第二漏极区下方。第一掺杂区的面积和/或掺杂浓度大于第二掺杂区的面积和/或掺杂浓度。通过改变掺杂区的面积/掺杂浓度,可修正掺杂区与接点区距离不同造成的差异,使不同区域各寄生双极性晶体管(BJT)的崩溃电压大致相同,便可使各BJT导通时间几乎一致。
搜索关键词: 静电 放电 保护 结构
【主权项】:
1.一种静电放电保护结构,其特征在于包括:基底;接点区,位于所述基底中;第一金属氧化物半导体元件,位于所述基底上,包括具有第一导电型的第一漏极区;第二金属氧化物半导体元件,位于所述基底上,包括具有所述第一导电型的一第二漏极区,其中所述第一漏极区较所述第二漏极区接近所述接点区;第一掺杂区,具有第二导电型,位于所述第一漏极区下方;以及第二掺杂区,具有所述第二导电型,位于所述第二漏极区下方,其中所述第一掺杂区的面积大于所述第二掺杂区的面积。
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