[发明专利]一种硅片清洗液、制备方法、用途和硅片清洗方法有效
| 申请号： | 201310300228.8 | 申请日： | 2013-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN103333748A | 公开（公告）日： | 2013-10-02 |
| 发明（设计）人： | 侯军;李波;熊展瑜 | 申请（专利权）人： | 常熟奥首光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/825 | 分类号： | C11D1/825;C11D3/37;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 | 代理人： | 郭官厚 |
| 地址： | 215513 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅片清洗液、制备方法、用途及使用该清洗液的硅片清洗方法，所述清洗液包括含氟表面活性剂、聚氧丙烯聚氧乙烯聚醚、无机碱、络合剂、纤维素衍生物和纯水，其对硅片具有优异的清洗洁净能力，能够彻底除去污染物，提高电子元件的洁净度；此外，所述清洗液具有制备简单、成本低廉、环境友好等诸多优点，具有广阔的研究价值和工业应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种硅片清洗液，所述清洗液包括下述重量份的各种组分：![]()
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