[发明专利]形成互连结构的方法及互连结构无效
| 申请号： | 201310300339.9 | 申请日： | 2013-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN103579097A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | J·A·奥特;A·A·伯尔 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | H01L21/768 | 分类号： | H01L21/768;H01L23/532 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 贺月娇;于静 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及形成互连结构的方法及互连结构。在存在于衬底表面上的含铜结构的暴露的侧壁表面和最上表面上形成连续的石墨烯层。在含铜结构上所述连续的石墨烯层的存在减少了铜氧化和铜离子的表面扩散，因此提高了所述结构的抗电迁移性。使用石墨烯可以获得这些优点而不增加含铜结构的电阻。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 互连 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种形成互连结构的方法，包括：在衬底的表面上形成牺牲电介质材料；在所述牺牲电介质材料中形成暴露所述衬底的表面的一部分的至少一个开口；在所述至少一个开口中以及所述衬底的表面的暴露部分形成含铜结构；去除所述牺牲电介质材料的剩余部分；以及在所述含铜结构的暴露的侧壁表面和最上表面上形成连续的石墨烯层。
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