[发明专利]除去负性光刻胶的方法有效
| 申请号： | 201310301268.4 | 申请日： | 2013-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN103425000A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | P·J·奇可洛;B·D·阿莫斯;S·麦卡蒙 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了除去负性光刻胶的方法，所述方法包括：a)提供包括聚合的负性光刻胶的基体；和b)将包含聚合的负性光刻胶的基体与含有氢氧化铵的水基碱性溶液接触，从基体上除去聚合的负性光刻胶。在本发明中，使用水基碱性溶液在相对较低的温度和更快的剥离时间下从基体上除去聚合的负性光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 除去 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：a)提供包括聚合的负性光刻胶的基体；和b)将包含聚合的负性光刻胶的基体与含有氢氧化铵的水基碱性溶液接触，从基体上除去聚合的负性光刻胶。
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