[发明专利]干式清洁机架、干式清洁装置和干式清洁法有效

专利信息
申请号: 201310301359.8 申请日: 2013-07-18
公开(公告)号: CN103567192A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 种子田裕介;渕上明弘;塚原兴治;村上格二;村田省藏 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张祥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种干式清洁机架,包括:内部空间,清洁介质在该内部空间中流动;开口部件,该开口部件构造成与清洗对象接触:进气导管,该进气导管构造成将外界空气引入到内部空间中;抽吸端口,该抽吸端口对从进气导管引入到内部空间中的空气抽真空,并且导致在内部空间中产生循环空气流;流路限制构件,该流路限制构件调节循环空气流在内部空间内的循环轴线;清洁介质排出口,该清洁介质排出口与循环空气流的循环流路外部连通,并且被构造成将清洁介质从循环流路排出到外部;和清洁介质导引构件,该清洁介质导引构件将清洁介质引导到清洁介质排出口。
搜索关键词: 清洁 机架 装置
【主权项】:
一种干式清洁机架,所述干式清洁机架构造成通过由空气流使清洁介质流动并且使所述清洁介质与清洗对象接触来清洁所述清洗对象,所述干式清洁机架包括:内部空间,所述清洁介质在所述内部空间中流动;开口部件,所述开口部件构造成与所述清洗对象接触,以便所述清洁介质同所述清洗对象相撞;进气导管,所述进气导管构造成将外界空气引入到所述内部空间中;抽吸端口,所述抽吸端口对从所述进气导管引入到所述内部空间中的空气抽真空,并且导致在所述内部空间中产生循环空气流;流路限制构件,所述流路限制构件调节所述循环空气流在所述内部空间内的循环轴线;清洁介质排出口,所述清洁介质排出口与所述循环空气流的循环流路外部连通,并且被构造成将所述清洁介质从所述循环流路排出到外部;和清洁介质导引构件,所述清洁介质导引构件将所述清洁介质引导到所述清洁介质排出口。
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