[发明专利]一种单横模偏振稳定的垂直腔面发射激光器

摘要

本发明涉及一种单横模偏振稳定的垂直腔面发射激光器。一种单横模偏振稳定输出的垂直腔面发射激光器，包括下电极，衬底，下布拉格反射镜，相位匹配层，增益区，相位匹配层，电流限制层，电流限制孔，上布拉格反射镜，SiO2钝化层，上电极；其特征在于，电流限制孔为各向异性，在[011]、[0‐11]两晶向上的直径比值大于1.5，且最大直径小于4μm。通过控制电流限制孔尺寸控制器件单横模工作；由各向异性电流限制孔对不同偏振光散射损耗的差异实现对激光器输出光偏振态的调控。本发明可以在全电流范围内实现较高的边模抑制比和偏振抑制比，且所用工艺为传统垂直腔面发射激光器制作工艺，制作成本低，可操作性强，可重复性好。

主权项

一种单横模偏振稳定输出的垂直腔面发射激光器，包括下电极，衬底，下布拉格反射镜，相位匹配层，增益区，相位匹配层，电流限制层，电流限制孔，上布拉格反射镜，SiO2钝化层，上电极；其特征在于，电流限制孔为各向异性，在[011]、[0‑11]两晶向上的直径比值大于1.5，且最大直径小于4μm。