[发明专利]一种自由曲面灰度掩膜的设计方法有效
申请号: | 201310303059.3 | 申请日: | 2013-07-17 |
公开(公告)号: | CN103425821A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 杜立群;阮晓鹏 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 侯明远 |
地址: | 116024*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种自由曲面灰度掩膜的设计方法,属于微制造技术领域。其特征是利用计算机辅助设计软件建立目标曲面模型的过程间接控制灰度掩膜上灰度单元透射率;利用计算机辅助制造中的刀路模拟对目标曲面模型进行曲面离散;利用计算机辅助制造中的刀路模拟间接控制灰度掩膜图中灰度单元的排列方式;利用改进后的铺路法沿固定铺路节点纵向铺路来逐次生成灰度单元;在Visual Studio开发环境下使用C++语言、AutoCAD二次开发工具ObjectARX,对AutoCAD进行二次开发,进行自由曲面灰度掩模设计。本发明的效果和益处是:本发明将计算机辅助产品造型设计、计算机辅助制造和灰度编码相关理论相结合,首次实现了自由曲面灰度掩模的数字化设计。 | ||
搜索关键词: | 一种 自由 曲面 灰度 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种自由曲面灰度掩膜设计方法,其特征包括五部分:第一部分:利用计算机辅助设计软件建立目标曲面模型的过程间接控制灰度掩膜上不同区域灰度单元的透射率;第二部分:利用计算机辅助制造中的刀路模拟对目标曲面模型进行曲面离散;第三部分:利用计算机辅助制造中的刀路模拟间接控制灰度掩膜图中灰度单元的排列方式;第四部分:利用改进后的铺路法沿固定铺路节点纵向铺路来逐次生成灰度单元;第五部分:在Visual Studio开发环境下使用C++语言、AutoCAD二次开发工具ObjectARX,对AutoCAD进行二次开发,进行自由曲面灰度掩模设计。
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