[发明专利]光栅机械刻划工艺试验装置有效

专利信息
申请号: 201310305382.4 申请日: 2013-07-19
公开(公告)号: CN103395090A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 石广丰;史国权;宋林森;王磊;肖为;吕洋洋;蔡宏彬;丁健生;胡明亮;周锐奇 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: B26D3/08 分类号: B26D3/08;B26D5/00;G02B5/18
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 陶尊新
地址: 130022 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 光栅机械刻划工艺试验装置属于光栅工艺技术领域。现有技术无法调节刻划刀具装夹角度,无法调整工件水平度。在本发明中,龙门悬架安装在底座上,刀架刚性悬挂在龙门悬架横梁中部;刻划刀具安装在刀架下端;定位平台与刀架在Z方向上对应并安装在底座上;定位平台中的直线位移平台由X向平移平台、Y向平移平台、Z向平移平台三者叠加连接而成;龙门悬架的两根立柱竖直固定在底座上,横梁两端与两根立柱内侧通过燕尾槽连接;定位平台中的弧线位移平台由X轴弧线位移平台与Y轴弧线位移平台叠加而成;直线位移平台与弧线位移平台叠加连接在一起;XYZ三向微力测力仪位于定位平台上部;刀架中的X轴调节座、Y轴调节座、Z轴调节座三者叠加连接在一起。
搜索关键词: 光栅 机械 刻划 工艺 试验装置
【主权项】:
一种光栅机械刻划工艺试验装置,龙门悬架安装在底座(1)上,刀架(2)刚性悬挂在龙门悬架横梁(3)中部;刻划刀具(4)安装在刀架(2)下端;定位平台与刀架(2)在Z方向上对应并安装在底座(1)上;定位平台中的直线位移平台(5)由X向平移平台、Y向平移平台、Z向平移平台(6)三者叠加连接而成;其特征在于,龙门悬架的两根立柱(7)竖直固定在底座(1)上,横梁(3)两端与两根立柱(7)内侧通过燕尾槽连接;定位平台中的弧线位移平台(8)由X轴弧线位移平台与Y轴弧线位移平台叠加而成;直线位移平台(5)与弧线位移平台(8)叠加连接在一起;XYZ三向微力测力仪(9)位于定位平台上部;刀架(2)中的X轴调节座、Y轴调节座、Z轴调节座三者叠加连接在一起。
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