[发明专利]显示装置及其制造方法有效
申请号: | 201310307336.8 | 申请日: | 2013-07-18 |
公开(公告)号: | CN103633098A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 植村典弘;野田刚史;三宅秀和;铃村功 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本显示器 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;马立荣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 发明的显示装置及其制造方法的目的在于防止因入射光导致的可靠性降低以及绝缘耐压降低。栅极绝缘膜(30)随着栅电极(26)的表面形状而具有凸部(32),具有高度从栅电极的周缘沿着栅电极的表面而变化的层差部(34)。氧化物半导体层(40)以具有晶体管构成用区域(42)和覆盖区域(50)的方式设置在栅极绝缘膜上,晶体管构成用区域是连续一体地具有沟道区域、源极区域以及漏极区域的区域,覆盖区域是与晶体管构成用区域分离并覆盖栅极绝缘膜的层差部的区域。在氧化物半导体层的沟道区域上设置有沟道保护层。与氧化物半导体层的源极区域以及漏极区域接触地设置有源电极以及漏电极。在源电极以及漏电极上设置有钝化层。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种显示装置,其特征在于,具有:基板;栅电极,其设置在所述基板上;栅极绝缘膜,其以覆盖所述栅电极的方式设置在所述基板上,随着所述栅电极的表面形状而具有凸部,具有高度沿着从所述栅电极的周缘升起的形状而变化的层差部;氧化物半导体层,其以具有晶体管构成用区域和覆盖区域的方式设置在所述栅极绝缘膜上,所述晶体管构成用区域是连续一体地具有沟道区域、源极区域以及漏极区域的区域,所述覆盖区域是与所述晶体管构成用区域分离并覆盖所述栅极绝缘膜的所述层差部的区域;沟道保护层,其设置在所述氧化物半导体层的所述沟道区域上;源电极以及漏电极,其分别与所述氧化物半导体层的所述源极区域以及所述漏极区域接触地设置;以及钝化层,其设置在所述源电极以及所述漏电极上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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