[发明专利]一种低品位氧化铜矿生产硫酸铜新工艺

摘要

本发明涉及一种直接使用低品位氧化铜矿生产电镀级硫酸铜的新工艺。所述工艺从影响浸出的各因素方面进行了研究，获得合适的工艺参数，铜的浸出率稳定在70%左右，铁有3.5%进入到浸出液，铜矿中的自由氧化铜部分基本浸出完全。

主权项

一种低品位氧化铜矿生产硫酸铜新工艺，包括三个部分：(1)浸出：氧化铜矿通过硫酸浸出后使铜溶出，再经过滤分离渣液，得到含铜的浸出液，即含酸和杂质的硫酸铜溶液；(2)萃取与反萃：采用铜的特效萃取剂M5640对浸出液进行萃取，使铜得到富集，同时利用萃取剂的高效选择性实现铜与杂质元素的分离，浸出液萃取铜后返回浸出；反萃是将负载有机相中的铜反萃到水溶液中，进一步使铜富集，并实现萃取有机相的再生；(3)蒸发浓缩结晶及粗硫酸铜的精制：反萃液经蒸发浓缩即可得到因为饱和而析出的硫酸铜粗晶体，该晶体须经进一步精制提高品质；其中，浸出条件为：控制液固比为3.5‑4.5：1，H2SO4质量浓度25‑35g/L，室温，矿石粒度‑100目占80%，搅拌浸出40‑60min；其中，萃取条件为：萃取剂：ACORGA M5640；稀释剂：煤油；萃取剂浓度：18‑22%；相比（O/A）：1/2.5‑3.5；萃取温度：室温；萃取时间：100‑140s；其中，反萃条件为：反萃初始酸度：350‑450g/L；反萃相比(0/A)：3.5‑4.5/1；反萃温度：20℃；反萃时间：6‑10min。