[发明专利]一种去除杂质SiO2和Al2O3提纯石墨的方法无效

专利信息
申请号: 201310315890.0 申请日: 2013-07-25
公开(公告)号: CN104340968A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 王志敏;刘天云 申请(专利权)人: 青岛广星电子材料有限公司
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266613 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提出一种去除杂质SiO2和Al2O3提纯石墨的方法,能有效去除石墨中的杂质,以石墨为原料,经提纯后的使SIO2的残留量≤30MG/L,AL2O3的残留量≤0.3%,纯度>99.99%,取含碳量>65%的石墨,放入反应釜I内,先采用加压碱浸和常压酸浸对石墨进行处理,所用的LiCO3浓度为10%~35%,KOH浓度为6%~30%,NaHCO3浓度为7%~28%;其中常压酸浸是在超声波场或/和微波场下进行;处理后的石墨粉再按石墨的重量百分比加入硫酸21%-24%、氢氟酸13%-28%进行浸出,加入到反应釜中,搅拌加热加入碳酸铈,将氧化剂缓慢加入,搅拌,加热煮沸,静置澄清,过滤,可以得到无硅、铝杂质高纯度的石墨。
搜索关键词: 一种 去除 杂质 sio sub al 提纯 石墨 方法
【主权项】:
一种去除杂质SiO2和Al2O3提纯石墨的方法,其特征在于:采用含碳量> 65%的石墨为原料,经提纯后使SIO2的残留量≤28MG/L,AL2O3的残留量≤0.2%,纯度> 99.99%,步骤如下:取含碳量> 65%的石墨500‑600kg,放入反应釜I 内,先采用加压碱浸和常压酸浸对石墨进行处理,所用的LiCO3 浓度为10%~35%, KOH 浓度为6%~ 30%,NaHCO浓度为7%~28% ;其中常压酸浸是在超声波场或/ 和微波场下进行,处理后的石墨粉再按石墨的重量百分比加入硫酸21% ‑24%、氢氟酸13%‑28%进行浸出,加入到反应釜中,搅拌加热加入碳酸铈,将氧化剂缓慢加入,搅拌,加热煮沸,静置澄清,过滤,可得高纯度的石墨。
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