[发明专利]三维MoS2@MWNTs 纳米结构及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310317889.1 申请日: 2013-07-25
公开(公告)号: CN104341006A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 张庆锋;郁可;朱自强;宋长清 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: C01G39/06 分类号: C01G39/06;C01B31/02;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 代理人: 董红曼
地址: 200062 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种三维MoS2@MWNTs纳米结构,其包括均匀交叉在一起的MoS2和MWNTs,MWNTs表面上覆盖多层MoS2纳米层和MoS2纳米突起,形成三维MoS2@MWNTs纳米结构。本发明还提供了三维MoS2@MWNTs纳米结构的制备方法,利用水热法MoS2和MWNTs在多元醇协助下制备得到大面积的MoS2@MWNTs纳米半导体材料。本发明操作简单、成本低、重复性好、可实现规模生产,在光催化性能、电化学以及场发射研究领域中有极大应用潜力。
搜索关键词: 三维 mos sub mwnts 纳米 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种三维MoS2@MWNTs纳米结构,其特征在于,其包括MoS2和MWNTs;所述MoS2和MWNTs均匀交叉;以所述MWNTs为骨架,在所述MWNTs表面上覆盖多层MoS2纳米层和MoS2纳米突起;形成三维MoS2@MWNTs纳米结构。
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