[发明专利]诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法无效

专利信息
申请号: 201310317997.9 申请日: 2013-07-25
公开(公告)号: CN103416306A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 程汉;高静;黄华孙;安泽伟;胡彦师 申请(专利权)人: 中国热带农业科学院橡胶研究所
主分类号: A01H4/00 分类号: A01H4/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 黄慧德
地址: 57173*** 国省代码: 海南;66
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摘要: 发明涉及一种诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法。在拟南芥培养基中添加浓度为0.1~10mM的过氧化氢,进行暗培养,黑暗培养温度为22~24℃,湿度70%~90%。拟南芥在黑暗中发芽,继续培养1~2个月后,诱导发育长出两片以上真叶。本发明中所使用的方法简单、有效,对光照不足地区的作物栽培具有重要的启示作用。
搜索关键词: 诱导 拟南芥 暗中 继续 发育 方法
【主权项】:
诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法,其特征在于在拟南芥培养基中添加摩尔浓度为0.1~10mM的过氧化氢,进行暗培养,拟南芥在黑暗中发芽,继续发育长出两片以上真叶。
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