[发明专利]诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法无效
申请号: | 201310317997.9 | 申请日: | 2013-07-25 |
公开(公告)号: | CN103416306A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 程汉;高静;黄华孙;安泽伟;胡彦师 | 申请(专利权)人: | 中国热带农业科学院橡胶研究所 |
主分类号: | A01H4/00 | 分类号: | A01H4/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 黄慧德 |
地址: | 57173*** | 国省代码: | 海南;66 |
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摘要: | 本发明涉及一种诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法。在拟南芥培养基中添加浓度为0.1~10mM的过氧化氢,进行暗培养,黑暗培养温度为22~24℃,湿度70%~90%。拟南芥在黑暗中发芽,继续培养1~2个月后,诱导发育长出两片以上真叶。本发明中所使用的方法简单、有效,对光照不足地区的作物栽培具有重要的启示作用。 | ||
搜索关键词: | 诱导 拟南芥 暗中 继续 发育 方法 | ||
【主权项】:
诱导拟南芥在黑暗中继续发育的方法,其特征在于在拟南芥培养基中添加摩尔浓度为0.1~10mM的过氧化氢,进行暗培养,拟南芥在黑暗中发芽,继续发育长出两片以上真叶。
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