[发明专利]一种基于磁流变胶的抛光方法及装置有效
| 申请号： | 201310318458.7 | 申请日： | 2013-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN103447889A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 汤春瑞;赵灿;刘丹丹 | 申请（专利权）人： | 黑龙江科技大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 深圳市智科友专利商标事务所 44241 | 代理人： | 曲家彬 |
| 地址： | 150022 黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种基于磁流变胶的抛光方法及装置，旨在克服现有技术中的抛光过程可靠性低的缺点，提供一种基于磁流变胶的抛光方法，包括以下步骤：A、将被抛光零件固定在抛光装置的密闭容腔内壁上；B、在抛光装置的密闭容腔中注入包含磨料的磁流变胶；C、通过外力使磁流变胶在抛光装置的密闭容腔内相对被抛光零件表面往返移动，通过磁场控制磁流变胶的状态对抛光工艺参数进行调节。还提供一种基于磁流变胶的抛光装置，中缸分别与上缸、下缸固定安装后形成密闭容腔，中缸外侧设有同轴安装的控制线圈，中缸内壁设有固定被抛光零件的卡具，封闭容腔内填充有磁流变胶。本发明通过磁场控制磁流变胶的状态进行抛光，能够调节加工效率及精度，适用于零件的抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 流变 抛光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基于磁流变胶的抛光方法，通过抛光装置内的介质对被抛光零件的表面进行抛光，其特征在于，包括以下步骤：A、将被抛光零件固定在抛光装置的密闭容腔内壁上；B、在抛光装置的密闭容腔中注入包含磨料的磁流变胶；C、封闭抛光装置的密闭容腔，通过外力使磁流变胶在抛光装置的密闭容腔内相对被抛光零件表面往返移动，在该移动过程中磁流变胶中的磨料对被抛光零件表面进行抛光，通过磁场控制与被抛光零件接触的磁流变胶的状态对抛光工艺参数进行调节。
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