[发明专利]用于平板显示器的相移掩模坯件和光掩模有效
| 申请号： | 201310319871.5 | 申请日： | 2013-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN103576441A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 南基守;李东镐;朴渊洙;徐成旼;金荣善 | 申请（专利权）人： | S&S技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/26 | 分类号： | G03F1/26 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人： | 宋菲;刘云贵 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 为了制造大面积平板显示器（FPD），使用包含至少两个膜的多层型的层或连续层来形成相移层，该膜含有金属和轻元素，例如氮（N）、氧（O）和碳（C）。该多层型的层或连续层是通过在透明衬底上堆叠具有不同组成和不同蚀刻速率的至少两个膜来形成。因此，该相移层的厚度可以减小，并且边缘部分的截面的斜坡可以在该相移层的图案化过程中陡峭地形成，使得相移层图案之间的边界可以是清晰的。结果是，可以确保该相移层的均匀性，因此可以制造出具有更精细图案的大面积FPD产品。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 平板 显示器 相移 掩模坯件 光掩模 | ||
【主权项】：
一种用于平板显示器（FPD）的相移光掩模，其包括设置在透明衬底上的相移层图案，其中所述相移层图案具有至少两个膜相堆叠的结构。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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