[发明专利]光CVD膜的制造方法及光CVD膜的制造装置

摘要

本发明提供一种容易进一步提高膜厚的均匀性的光CVD膜的制造方法和制造装置。在光CVD膜的制造方法中，包括：工序(a)，向形成光CVD膜的反应室导入光CVD膜的原料气体，使反应室达到规定压力；工序(b)，在工序(a)之后，停止原料气体向反应室的导入以及原料气体从反应室的排气，向反应室照射光；以及工序(c)，在工序(b)之后，停止照射，然后对反应室进行排气，将工序(a)～工序(c)反复多次。

主权项

一种光CVD膜的制造方法，其特征在于，包括：工序(a)，向形成光CVD膜的反应室导入所述光CVD膜的原料气体，使所述反应室达到规定压力；工序(b)，在所述工序(a)之后，停止将所述原料气体向所述反应室的导入以及所述原料气体从所述反应室的排气，向所述反应室照射光；和工序(c)，在所述工序(b)之后，停止所述照射，然后对所述反应室进行排气，将所述工序(a)～所述工序(c)反复多次。