[发明专利]产生用于电化学存储器的电极的联接接触的方法，制造电化学存储器的方法和电化学存储器在审
| 申请号： | 201310324481.7 | 申请日： | 2013-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN103579573A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | S.杜德齐亚克;R.兰萨耶;J.科尼希;M.古耶诺特;R.鲍尔;S.弗里茨 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | H01M2/26 | 分类号： | H01M2/26;H01M10/058;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 方莉;杨国治 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种产生一用于电化学存储器（200）的电极（102）的联接接触的方法，其中，所述电极（102）具有第一材料。所述方法包括一提供由第二材料制成的接触元件（202）的步骤，其中，所述接触元件（202）具有以所述第一材料覆层的分段（208）；以及一将所述接触元件（202）的被覆层的分段（208）与所述电极（102）进行电连接和接卸连接的步骤，用以产生所述联接接触。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 用于 电化学 存储器 电极 联接 接触 方法 制造 | ||
【主权项】：
产生一用于电化学存储器（200）的电极（102）的联接接触的方法（300），其中，所述电极具有第一材料，并且所述方法包括下列步骤：提供（300）由第二材料制成的接触元件（202），其中，所述接触元件具有以所述第一材料进行覆层的分段（208）；并且将所述接触元件（202）的被覆层的分段与所述电极（102）进行电连接和机械连接（302），用以产生所述联接接触。
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