[发明专利]一种强光源干扰微光系统成像的特征量化方法有效
| 申请号： | 201310326821.X | 申请日： | 2013-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN103400005A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 王晓蕊;黄晓敏;郭冰涛;张建奇;黄曦;刘德连 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G06T19/00 |
| 代理公司： | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人： | 张问芬;王品华 |
| 地址： | 710071*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 一种强光源干扰微光系统成像的特征量化方法，其步骤为：(1)利用3dMax软件生成目标及背景三维模型，导入基于OGRE三维场景仿真程序生成特定环境景象；(2)建立强光源作用下的目标表面辐射特性模型，每一帧图像根据强光源位置、观测位置、目标表面面元位置和法线方向向量实时计算强光源和环境光在目标表面面元产生的辐射照度；结合目标表面反射特性模型，实时计算目标反射强光源和环境光在观测方向产生的光亮度；(3)建立强光源作用前后的微光系统成像信号响应特性模型；(4)结合强光源作用下的目标表面辐射特性模型和微光成像系统信号响应特性模型，模拟目标位于强光源干扰光照范围内外不同位置时目标的成像结果并对结果进行分析。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光源 干扰 微光 系统 成像 特征 量化 方法 | ||
【主权项】：
一种强光源干扰微光系统成像的特征量化方法，包括如下步骤：(1)利用3dMax软件生成目标及其背景的三维模型，并导入基于OGRE的三维场景仿真程序中，生成特定环境景象；(2)建立强光源作用下的目标表面辐射特性模型，在图像渲染的每一帧，根据强光源的位置、观测位置、目标表面面元的位置和法线方向向量实时计算强光源和环境光在目标表面面元处产生的辐射照度；(3)计算目标反射强光源和环境光在观测方向产生的光亮度；(4)建立强光源作用前的微光系统成像的信号响应特性模型；(5)建立强光源作用后的微光系统成像的信号响应特性模型；(6)结合强光源作用下的目标表面辐射特性模型和微光系统成像的信号响应特性模型，模拟了在强光干扰源下，目标位于干扰源光照范围外以及干扰源光照范围内不同位置时目标的成像结果，并对结果进行分析；当强光源位于系统视场内和视场外时，导致系统输出图像质量变化的主要因素不同，为实现强光源干扰微光系统成像的特征量化，需要根据强光源位置考虑不同导致图像质量变化的因素。
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