[发明专利]一种苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料的制备方法有效
| 申请号： | 201310330862.6 | 申请日： | 2013-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN103399061A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 李红波;李静;王伟;高雷;李威 | 申请（专利权）人： | 盐城工学院 |
| 主分类号： | G01N27/30 | 分类号： | G01N27/30 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 缪友菊 |
| 地址： | 224051*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（1）将0.5×10-4–2×10-4molL-1的苝四羧酸DMF溶液和0.5×10-2–2×10-2mgmL-1的石墨烯悬浮液按照2:1–8:1的比例在室温条件下混合超声1～4小时，再搅拌1～4小时静置过夜，生成苝四羧酸/石墨烯异质结；（2）将苝四羧酸/石墨烯异质结悬浮液滴涂在抛光后的玻碳电极表面于室温下晾干后得到苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料。本发明方法制备的苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料，为带有活性基团的异质结半导体，其能与探针分子稳定性结合，从而可以提高光电化学传感器的综合分析性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 羧酸 石墨 烯异质结基光 阳极 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种苝四羧酸‑石墨烯异质结基光阳极材料的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（1）将0.5×10‑4 – 2×10‑4 mol L‑1的苝四羧酸DMF溶液和0.5×10‑2 – 2×10‑2 mg mL‑1的石墨烯悬浮液按照2:1 – 8:1的比例在室温条件下混合超声1～4小时，再搅拌1～4小时静置过夜，生成苝四羧酸/石墨烯异质结；（2）将苝四羧酸/石墨烯异质结悬浮液滴涂在抛光后的玻碳电极表面于室温下晾干后得到苝四羧酸‑石墨烯异质结基光阳极材料。
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