[发明专利]一种光流跟踪方法和装置有效
申请号: | 201310331742.8 | 申请日: | 2013-08-01 |
公开(公告)号: | CN103426184A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 颜国雄 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | G06T7/20 | 分类号: | G06T7/20 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种光流跟踪方法和装置,包括:根据图像上的待跟踪物体生成随机结构,所述随机结构包括相对位置固定的至少两个结构块,每个所述结构块中包含待跟踪物体的至少一个特征点;采用光流跟踪算法对所述随机结构中所有结构块进行跟踪,以得到所述随机结构的位置偏移量;根据所述随机结构的位置偏移量,估计所述待跟踪物体的目标位置。本发明实施例提供的光流跟踪方法和装置,通过获取图像上待跟踪物体的特征点,并将各特征点生成随机结构,对每个随机结构进行跟踪获得随机结构的位置偏移,从而估计待跟踪物体的位置,减少了跟踪错误,有效提高了跟踪精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 跟踪 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种光流跟踪方法,其特征在于,包括:根据图像上的待跟踪物体生成随机结构,所述随机结构包括相对位置固定的至少两个结构块,每个所述结构块中包含所述待跟踪物体的至少一个特征点;采用光流跟踪算法对所述随机结构中所有结构块进行跟踪,以得到所述随机结构的位置偏移量;根据所述随机结构的位置偏移量,估计所述待跟踪物体的目标位置。
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