[发明专利]一种基于位置传感器的光刻机掩模预对准系统

摘要

本发明公开一种光刻机掩模预对准系统，包括照明部件，具有预对准标记的掩模板，其特征在于相应于所述预对准标记的位置传感装置，所述照明部件照射所述预对准标记，所述位置传感装置采集所述预对准标记被照明部件照亮后产生的光斑，并输出代表所述预对准标记位置信息的电流值，根据该电流值运算出所述掩模板的水平位置与旋转角度信息。

主权项

一种光刻机掩模预对准系统，包括：照明部件，具有预对准标记的掩模板，其特征在于：相应于所述预对准标记的位置传感装置，所述照明部件照射所述预对准标记，所述位置传感装置采集所述预对准标记被照明部件照亮后产生的光斑，并输出代表所述预对准标记位置信息的电流值，根据该电流值运算出所述掩模板的水平位置与旋转角度信息，其水平预对准位置精度小于等于50nm；其中所述位置传感装置包括：位置传感器、信号放大器和信号处理器，所述信号放大器接受所述位置传感器输出的电流值，经信号放大后交信号处理器，所述信号处理器进行运算后，进而得出所述掩模板的位置信息，且在所述位置传感器上方分别放置了具有放大倍率的双远心光学成像镜头；所述具有预对准标记的掩模板具有左右至少各1个预对准标记，左预对准标记与右预对准标记具有相同的形状和尺寸；所述信号处理器进行信号运算后，得出所述掩模板以X轴为基准的旋转角度为(Y1‑Y2)/L，所述掩模板的X向位置为(X1+X2)/2，所述掩模板的Y向位置为(Y1+Y2)/2，其中L为所述左预对准标记与所述右预对准标记之间的距离，(X1，Y1)为所述左预对准标记的坐标，(X2，Y2)为所述右预对准标记的坐标。