[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板有效
| 申请号： | 201310335499.7 | 申请日： | 2011-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN103497732A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 岩野友洋;成田武宪;龙崎大介 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 杜娟 |
| 地址： | 日本东京都千*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 悬浮液 研磨 液套剂 方法 | ||
【主权项】：
一种悬浮液，含有磨粒和水，其中，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，且，在所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的物质，且，在所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%／cm以上的物质，所述磨粒的平均二次粒径为1～200nm。
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