[发明专利]反应腔和MOCVD设备

摘要

本发明公开了一种反应腔，该反应腔包括托盘装置、支撑骨架和传导单元，其中所述托盘装置，包括多个小托盘和沿所述反应腔的高度方向设置的多层大托盘，每层所述大托盘在周向上都设置有多个所述小托盘；所述支撑骨架与所述大托盘同轴设置；所述传导单元设置在所述支撑骨架与所述小托盘之间；当所述支撑骨架或所述托盘装置绕所述反应腔的纵向轴线转动时，利用所述传导单元带动所述小托盘在所述大托盘的径向上环绕所述小托盘自身的轴线按照预定的速度旋转。本发明还提供一种包括所述反应腔的MOCVD设备。所述反应腔结构简单，降低了包括所述反应腔的MOCVD设备的总体成本。

主权项

一种反应腔，其特征在于，该反应腔包括托盘装置、支撑骨架和传导单元，其中：所述托盘装置，包括沿所述反应腔的高度方向设置的多层大托盘，每层所述大托盘在周向上都设置有多个小托盘；所述支撑骨架与所述大托盘同轴设置；所述传导单元设置在所述支撑骨架与所述小托盘之间；所述支撑骨架包括与多个所述大托盘一一对应的多个支撑盘和将该多个支撑盘串连的支撑件，每个所述大托盘都包括具有限位孔的承载部和支撑部，所述限位孔设置在所述承载部上，所述支撑部设置在所述承载部的下端面上，且每个所述大托盘上的所述承载部和与该大托盘相对应的支撑盘可滑动地连接；当所述支撑骨架或所述托盘装置绕所述反应腔的纵向轴线转动时，利用所述传导单元带动所述小托盘环绕所述小托盘自身的轴线按照预定的速度旋转。