[发明专利]光阻层剥离方法及装置无效
| 申请号： | 201310344113.9 | 申请日： | 2013-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN103399468A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 姚江波;莫超德 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光阻层剥离方法及装置，所述光阻层剥离方法包括：步骤1、提供蚀刻完毕且待去除光阻层的基板（20）；步骤2、采用高能量紫外光照射待去除的光阻层，对基板（20）进行全面曝光；步骤3、采用显影液对曝光后的基板（20）进行显影并清洗；步骤4、采用水气二流体、去离子水对该基板（20）上残留的显影液进行清除；步骤5、对清除残留显影液后的基板（20）进行风刀清洗，风刀清洗后，采用热板（27）对该基板（20）进行干燥处理，完成光阻层的去除。本发明的光阻层剥离方法及装置，利用显影液对经过高能量紫外光曝光后的光阻层进行清洗，达到去除光阻层的目的，该光阻层剥离方法工序简单，提高设备利用率，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻层 剥离 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种光阻层剥离方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、提供蚀刻完毕且待去除光阻层的基板（20）；步骤2、采用高能量紫外光照射待去除的光阻层，对基板（20）进行全面曝光；步骤3、采用显影液对曝光后的基板（20）进行显影并清洗；步骤4、采用水气二流体、去离子水对显影液清洗后的基板（20）上残留的显影液进行清除；步骤5、对清除残留显影液后的基板（20）进行风刀清洗，风刀清洗后，采用热板（27）对该基板（20）进行干燥处理，完成光阻层的去除。
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