[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板有效
| 申请号： | 201310345238.3 | 申请日： | 2011-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN103409108A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 岩野友洋 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 杜娟 |
| 地址： | 日本东京都千*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实施方式涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，且，所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液，在以1.59×105G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液层中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液层的物质。 | ||
| 搜索关键词： | 悬浮液 研磨 液套剂 方法 | ||
【主权项】：
一种悬浮液，含有磨粒和水，其中，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，且，所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液，在以1.59×105G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液层中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液相的物质，并且，在所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的物质。
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