[发明专利]无掩模曝光设备及其信号回馈控制方法

摘要

本发明提供了一种无掩模曝光设备及其设备信号回馈控制方法，所述无掩膜曝光设备包括曝光光照装置，用于提供曝光束；空间光调制器，根据曝光图案调整曝光束，并将非用于曝光的光束排斥掉；信号回馈控制装置，采集所述空间光调制器排斥掉的非用于曝光的光束，经计算后，用于控制所述空间光调制器。本发明通过探测器的设置，采集和探测了未被空间光调制器投射到曝光对象上的曝光束，进而能够据此对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈，一方面充分利用了这部分能量，不至于浪费，另一方面使得曝光图案的正确性得到了保证，有利于最后的成像质量。解决了如何实现在曝光过程中对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈的技术问题。

主权项

一种无掩模曝光设备，包括：曝光光照装置，用于提供曝光束；空间光调制器，根据曝光图案调整曝光束，并将非用于曝光的光束排斥掉；其特征在于，还包括：信号回馈控制装置，采集所述空间光调制器排斥掉的非用于曝光的光束，经计算后，用于控制所述空间光调制器，及所述曝光光照装置；所述信号回馈控制装置包括：探测器和控制器，探测器，用于采集和探测未被所述空间光调制器投射到曝光对象上的曝光束；控制器，分别与光源、所述空间光调制器和所述探测器连接，分别用于控制所述光源、根据所需的曝光图案控制所述空间光调制器的运作、以及根据所述探测器采集和探测的信息监测各个时间的曝光图案，从而通过所述空间光调制器对曝光图案进行补偿控制；所述空间光调制器为数字微反射镜阵列，所述数字微反射镜阵列中的每个微反射镜均仅有两个偏转角度，所述曝光束要么通过微反射镜的一个偏转角度投射到曝光需要的方向上，要么通过另一个偏转角度投射到非曝光需要的方向上；每个所述曝光图案包括若干像素，每个所述像素包括曝光与不曝光两个像素状态，两个像素状态分别与所述微反射镜的两种翻转角度对应，所述控制器内设有像素寄存器，所述像素寄存器用以预存每个曝光图案的每个像素状态信息，所述控制器通过所述像素寄存器中的信息控制所述微反射镜阵列中的微反射镜的翻转；具体为所述控制器通过将投射在所述探测器上的图案转化为像素状态信息，并将该像素状态信息与所述像素寄存器中预存的对应的曝光图案的像素状态信息进行比对，如果比对结果显示应为曝光状态的像素未曝光，则自动通过后续的曝光图案对其进行补偿；如果比对结果显示应为不曝光状态的像素错误曝光，则发出警告或报错、终止程序，并进行错误记录。