[发明专利]一种电积镍或电积钴的装置在审
申请号: | 201310350264.5 | 申请日: | 2013-08-13 |
公开(公告)号: | CN103436913A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 邓智林;杨思增;干勇 | 申请(专利权)人: | 四川省尼科国润新材料有限公司 |
主分类号: | C25C1/08 | 分类号: | C25C1/08;C25C7/00;C25C7/04 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 吴彦峰 |
地址: | 620866 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及电解沉积设备,具体为一种电积镍或电积钴的装置。该装置中的电积槽内设置有阴极框和阳极框,在阴极框和阳极框之间设置渗透膜,电积槽的一端设置有高位槽,高位槽内的电解液通过管道与电积槽连接,阴极框上设置电解液入口,电积槽内的电解液通过阴极框上的电解液入口进入阴极框,电解液再通过渗透膜渗透到阳极框中,在电积槽的另外一端设置低位槽,阳极框的下端设置阳极液出口,阳极液通过阳极液出口流至支管,然后经阳极液汇流总管进行汇流,汇流后进入阳极液溢流口,再通过管道与低位槽连接后排出电积槽。改变了传统了依靠隔膜架来使阴阳极分开,大大的缩短了电积槽内的同极间距,提高了槽利用率。电能耗低,节约了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 电积镍 电积钴 装置 | ||
【主权项】:
一种电积镍或电积钴的装置,包括带有阴极框和阳极框的电积槽,其特征在于:该电积槽内设置有阴极框和阳极框,在阴极框和阳极框之间设置渗透膜,电积槽的一端设置有高位槽,高位槽内的电解液通过管道与电积槽连接,阴极框上设置电解液入口,电积槽内的电解液通过阴极框上的电解液入口进入阴极框,电解液再通过渗透膜渗透到阳极框中,在电积槽的另外一端设置低位槽,阳极框的下端设置阳极液出口,阳极液通过阳极液出口流至支管,然后经阳极液汇流总管进行汇流,汇流后进入阳极液溢流口,再通过管道与低位槽连接后排出电积槽。
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