[发明专利]光栅刻划刀调整装置及其方法有效
申请号: | 201310353770.X | 申请日: | 2013-08-14 |
公开(公告)号: | CN103399585A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 唐玉国;于海利;李晓天;杨超;齐向东;巴音贺希格 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G05D3/12 | 分类号: | G05D3/12;B26D5/06 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 南小平 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 光栅刻划刀调整装置及其方法属于光栅刻划机械自动控制领域,目的在于实现高精度、高性能光栅的刻制。本发明的压电陶瓷设于承载座上,刀架定位安装头与压电陶瓷的输出端连接,刀架位于刀架定位安装头的下方,测量装置固定于承载座,n个封闭力机构设于承载座和刀架定位安装头之间,抬落刀机构安装在刀架定位安装头上,实现刀架的抬起和落下;压电陶瓷和测量装置与数据采集控制模块连接,数据采集控制模块控制压电陶瓷驱动刀架定位安装头产生位移量,调节刀架的运行误差。本发明压电陶瓷执行微定位时的负载质量较轻,提高了动态调节带宽和动态精度,降低了金刚石刻刀相对光栅基底间的误差,实现高精度、高性能光栅的刻制。 | ||
搜索关键词: | 光栅 刻划 调整 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
光栅刻划刀调整装置,其特征在于,包括承载座(1)、压电陶瓷(2)、刀架定位安装头(3)、刀架(4)、测量装置(5)、抬落刀机构(6)、封闭力机构和数据采集控制模块;所述压电陶瓷(2)设于所述承载座(1)上,所述刀架定位安装头(3)与所述压电陶瓷(2)的输出端连接,所述刀架(4)位于所述刀架定位安装头(3)的下方,所述测量装置(5)固定于所述承载座(1),对光栅基底和刀架定位安装头(3)的相对位移进行测量,所述n个封闭力机构设于所述承载座(1)和所述刀架定位安装头(3)之间,所述抬落刀机构(6)安装在所述刀架定位安装头(3)上,实现刀架(4)的抬起和落下;所述压电陶瓷(2)和所述测量装置(5)与数据采集控制模块连接,所述数据采集控制模块控制所述压电陶瓷(2)驱动所述刀架定位安装头(3)产生位移量,调节所述刀架(4)的运行误差。
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