[发明专利]相位差膜的制造方法在审
| 申请号： | 201310354524.6 | 申请日： | 2013-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN104375229A | 公开（公告）日： | 2015-02-25 |
| 发明（设计）人： | 洪维泽;邱大任;吴昱寯 | 申请（专利权）人： | 远东新世纪股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B27/26 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾台北市大*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种相位差膜的制造方法，包含：提供微结构基材，具有多条凸出部分以及多条凹入部分彼此交错排列；形成光配向层于该微结构基材上；以及以偏极紫外光由该微结构基材上照射该光配向层，其中，该偏极紫外光与该微结构基材的正向夹有扩散角度实质上介于20°～60°，以均匀照射该光配向层并使该光配向层形成均一的配向角。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种相位差膜的制造方法，包含：提供微结构基材，所述微结构基材具有多条凸出部分以及多条凹入部分彼此交错排列；形成光配向层于所述微结构基材上；以及以偏极紫外光由所述微结构基材上方照射所述光配向层，其中，所述偏极紫外光与所述微结构基材的正向夹有扩散角度实质上介于20°～60°，以均匀照射所述光配向层并使所述光配向层形成均一的配向角。
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