[发明专利]一种稀土RPdIn材料在低温磁制冷中的应用有效

专利信息
申请号: 201310361934.3 申请日: 2013-08-19
公开(公告)号: CN103468224A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 李领伟;霍德璇;苏伟涛;苏昆朋;钱正洪 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C09K5/14 分类号: C09K5/14
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种稀土RPdIn材料在低温磁制冷中的应用。本发明化学式为RPdIn(R=钬Ho、镝Dy或铽Tb)的稀土金属材料在低温区磁制冷方面的应用。该RPdIn材料具有ZrNiAl型晶体结构。本发明磁制冷用稀土RPdIn(R=钬Ho、镝Dy或铽Tb)材料不仅具有良好的磁、热可逆性质。在0~7T磁场变化下HoPdIn的等温磁熵变和磁制冷能力分别高达17.7J/kgK和635J/kg。本发明RPdIn(R=钬Ho、镝Dy或铽Tb)材料采用常规技术手段制备,该方法工艺简单、适用于工业化。
搜索关键词: 一种 稀土 rpdin 材料 低温 制冷 中的 应用
【主权项】:
一种稀土RPdIn材料在低温磁制冷中的应用,其特征在于化学式为RPdIn(R=钬Ho、镝Dy或铽Tb)的金属材料在低温区磁制冷方面的应用;该RPdIn(R=钬Ho、镝Dy或铽Tb)材料具有ZrNiAl型晶体结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310361934.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top