[发明专利]一种低温沉积柔性基材ITO膜镀膜装置及方法无效
| 申请号： | 201310362867.7 | 申请日： | 2013-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN103436844A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 朱刚毅;朱刚劲;江绍基 | 申请（专利权）人： | 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司;中山大学 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 谢静娜;裘晖 |
| 地址： | 526060 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种低温沉积柔性基材ITO膜镀膜装置及方法，其装置是将可实现正转和反转的基材卷绕机构、离子源和非平衡中频磁控溅射机构分别设于容器体内，离子源设于基材卷绕机构中放卷组件的外侧，非平衡中频磁控溅射机构设于基材卷绕机构中主辊的外侧；容器体外接高真空抽气机构，基材卷绕机构的输入端外接工件输送机构，基材卷绕机构的主辊一端外接冷热交换机构。其方法是：工件输送机构送样；高真空抽气机构对容器体抽真空；基材卷绕机构对柔性基材进行传送时，采用非平衡中频磁控溅射低温沉积柔性基材ITO薄膜。本发明实现了低温沉积较高质量的柔性基材ITO膜，其产品质量高、适用范围广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低温 沉积 柔性 基材 ito 镀膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种低温沉积柔性基材ITO膜镀膜装置，其特征在于，包括可实现正转和反转的基材卷绕机构、离子源、非平衡中频磁控溅射机构以及容器体，基材卷绕机构、离子源和非平衡中频磁控溅射机构分别设于容器体内，离子源设于基材卷绕机构中放卷组件的外侧，非平衡中频磁控溅射机构设于基材卷绕机构中主辊的外侧；容器体外接高真空抽气机构，基材卷绕机构的输入端外接工件输送机构，基材卷绕机构的主辊一端外接冷热交换机构。
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