[发明专利]曝光装置、控制曝光装置的方法和用于曝光的对齐方法在审
| 申请号： | 201310364831.2 | 申请日： | 2013-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN103869631A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 全镇弘;李石柱;延政勳 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;杨莘 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了能够防止因例如老化效应或热效应引起其精确度降低的曝光装置。还公开了控制曝光装置的方法和用于曝光的对齐方法。在一个方面，该曝光装置包括：主台，被配置为调整基板的位置；光束照射单元，用于将光束照射到掩膜上；以及光束监视单元，具有相对于所述主台固定的位置，并且用于识别从所述光束照射单元发出且穿过所述掩膜中的开口以形成特定图案的光束。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 控制 方法 用于 对齐 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括：主台，被配置为调整基板的位置；光束照射单元，被配置为将光束照射到掩膜上；以及光束监视单元，具有相对于所述主台固定的位置，并且被配置为识别从所述光束照射单元发出且穿过所述掩膜中的开口以形成特定图案的光束。
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