[发明专利]建立梳唇石斛离体持续开花体系的方法有效
| 申请号： | 201310369919.3 | 申请日： | 2013-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN103392608A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 何俊;张雪梅;程治英;李德铢 | 申请（专利权）人： | 中国科学院昆明植物研究所 |
| 主分类号： | A01H4/00 | 分类号： | A01H4/00 |
| 代理公司： | 昆明协立知识产权代理事务所(普通合伙) 53108 | 代理人： | 马晓青 |
| 地址： | 650201 *** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 提供建立梳唇石斛（Dendrobiumstrongylanthum Rchb.f.）离体持续开花体系的方法，取梳唇石斛外植体，进行离体培养，培养温度为25±2℃，光照强度为20μmol/（m2·s），光照12h/d，基本培养基为1/2MS，诱导丛芽产生花序、花序切段培养及营养生长和生殖生长相互转换的培养基为1/2MS+BA0.5mg/L+NAA0.2mg/L+S3%或1/2MS+NAA0.5mg/L+PPP3330.2mg/L+S2%或1/2MS+NAA0.5mg/L+Ac0.05%+S2%，所有培养基PH值为5.8，加5.6g/L琼脂固化。 | ||
| 搜索关键词： | 建立 石斛 持续 开花 体系 方法 | ||
【主权项】：
建立梳唇石斛离体持续开花体系的方法，取梳唇石斛外植体，进行离体培养，培养温度为25±2℃，光照强度为20μmol/（m2·s），光照12h/d，基本培养基为1/2MS，诱导丛芽产生花序、花序切段培养及营养生长和生殖生长相互转换的培养基为1/2MS+BA0.5mg/L+NAA0.2mg/L+S3%或1/2MS+NAA0.5mg/L+PPP3330.2mg/L+S2%或1/2MS+NAA0.5mg/L+Ac0.05%+S2%，所有培养基PH值为5.8，加5.6g/L琼脂固化。
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